2019年，我国终于突破了芯片用超高纯电子级磷酸和高选择性蚀刻液的进口替代难题，发明了高纯黄磷与电子级磷酸规模化生产关键技术，实现了高端芯片用超高纯电子级磷酸和高选择性蚀刻液的国产化。

高选择性蚀刻液主要应用在：一是半导体（集成电路、分立器件）、平板显示器、LED以及太阳能电池片等制作中被大量使用来清洗表面自身氧化物和其它污染物的液体化学品；二是在集成电路的制造过程中的蚀刻功效。

超高纯电子级磷酸及高选择性蚀刻液是芯片制造行业不可替代的微电子半导体芯片制造和关键电子化学品，例如晶圆减薄液、晶圆制绒液、多晶硅蚀刻液、电子级蚀刻液等关键技术目前已突破了美日韩等少数国家化工企业长期垄断和技术封锁，为我国芯片制造产业高质量发展创造了良好条件。在过滤半导体制造用的刻蚀液、剥离液以及液晶电视用的液晶原料时，对滤芯的耐药品性及溶出物的要求非常严格。聚丙烯等通用树脂不可使用，只能使用耐药性及耐溶出性优良的氟树脂。通过使用特殊的洗净方法开发出的全氟滤芯，对过滤介质要求严格的电子信息材料用药液等过滤特别适用。由于经过特殊洗净，无化学污染。全氟折叠滤芯过滤原液残留少，特别适合价格昂贵的蚀刻液体过滤。

制作IC时，可以简单分为4个步骤，金属溅镀、涂布光阻、蚀刻技术、光阻去除，其中过滤和分离是生产半导体，加工化学品和药品的行业，或控制气体或液体的系统的关键环节。

其中全氟折叠滤芯是采用聚四氟乙烯拉伸膜、PFA骨架制造，具有高通量、高流速、长寿命，以及极其优良的化学相容性和耐氧化性能等特点。这种滤芯广泛应用于化学品过滤中各种酸、碱、有机溶剂等化学品的过滤，能够满足大多数恶劣环境下的过滤需求。例如，半导体制造工艺中的高温、强腐蚀性的化学品过滤，化学品过滤中各种酸、碱、有机溶剂等化学品的过滤，蚀刻、清洗、光刻胶、显影液等以及其他的强氧化性液体的过滤关键材料。

为了提高过滤器的精度，过滤产品供应商需要获得较小的孔径，多采用增加滤材密度的方式，高密度的过滤介质在工作中，过滤介质就会有较大的压差，降低流速，这样过滤性能就会受到影响，所以理想的过滤介质需要承受高密度，高压、高流速，如大连义邦Dexmet氟聚合物延展过滤介质已在欧洲全氟折叠滤芯厂家PallX和Paker成熟应用多年，延展网由定制的精密模具沿着一个方向撕裂、拉伸，然后材料经过滚轴被加工到最终的厚度，是全球位数不多可以稳定生产高纯度PFA和PTFE网的厂家之一。

PFA和PTFE材料耐高温，耐强酸、强碱腐蚀，另外对比编织网，延展网结构稳定，在超高纯电子级磷酸及高选择性蚀刻液环境中，作为全氟滤芯的支撑层，可以辅助滤膜，起到一个很好的支撑效果，是全氟折叠滤芯的支撑层理想材料之一。芯片制造的难，就是难在不断地向物理极限发起挑战，在芯片研发与制造过程中，新的工艺和材料永远在颠覆着我们的认知，我们要做的，就是不断地挑战微观控制的极限。

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